Fokus Forschung: Messe-Trio – Drei Tage und drei Messen, zwei Standorte, eine Hochschule

Fokus Forschung: Messe-Trio – Drei Tage und drei Messen, zwei Standorte, eine Hochschule

Forschung, Messen

Die Hochschule Mittweida präsentiert sich zeitgleich auf drei technischen Messen

O&S, LASYS und SIT – wer im Zeitraum 31.05. bis 02.06.2016 eine dieser drei Messen besucht, kann sich an den Messeständen der Hochschule Mittweida über neuste Ergebnisse aus Forschung und Wissenschaft informieren.

Zur O&S, der Internationalen Fachmesse für Oberfläche und Schichten, stellen Prof. Frank Köster und sein Team von der Fakultät Ingenieurwissenschaften in Halle 9 der Stuttgarter Messe am Stand A59 aus. Zusammen mit der CMF Oberflächendesign GmbH präsentiert sich die Forschergruppe um Prof. Köster und gibt Einblicke in die Entwicklung verschleißfester Oberflächen für Kontakt- und Korrosionsschutzanwendungen.
Auf der Oberflächentechnikmesse O&S werden sowohl funktionelle Edelmetallschichten aus Gold- und Iridium, als auch außenstromlos erzeugte Nickelphosphorschichten präsentiert. Edelmetalle werden als Endoberfläche für elektrotechnische Anwendungen eingesetzt werden, um möglichst geringe Übergangswiderstände zu realisieren und oxidationsbeständige Kontaktierungen herzustellen. Ein aktuelles Forschungsprojekt der Hochschule Mittweida befasst sich mit der Entwicklung eines kommerziell nutzbaren Elektrolyten zur Abscheidung von Iridium aus wässrigen Systemen. Außerdem werden die Forschungsergebnisse zur galvanischen Abscheidung dispersionsverfestigter Goldschichten präsentiert. Die CMF Oberflächendesign GmbH bietet die Beschichtung von Bauteilen mit Legierungsschichten aus Nickel und Phosphor an. Das außenstromlose Abscheideverfahren bietet die Möglichkeit Bauteile mit 100%tiger Konturtreue sicher vor Korrosion zu schützen. Außerdem bieten chemische Nickelphosphorschichten eine nachhaltige Alternative zur  Verwendung von Chrom(IV)-haltigen Hartchrombädern, die aufgrund ihrer kanzerogenen Wirkung in den Anhang 14 der REACH-Verordnung aufgenommen wurden und ab September nächsten Jahres nur noch mit einer entsprechenden Autorisierung verwendet werden dürfen. 
Die O&S verzeichnete 2014 einen Besucherrekord von mehr als 10000 Fachbesuchern, die sich bei den 334 Ausstellen über Produktneuheiten und Innovationen rund um das Querschnittsthema Oberflächentechnik informierten.
Die Mittweidaer Forscher hoffen  auf ein reges Interesse und aufschlussreiche Fachgespräche.

Ebenfalls in Stuttgart, in Halle 4 am Stand A11 präsentiert sich die forschungsstärkste Einrichtung der Hochschule, das Laserinstitut Hochschule Mittweida, auf einem Gemeinschaftsstand mit dem Laserinstitut Mittelsachsen e.V. auf der Messe LASYS, der Internationalen Fachmesse für Systemlösungen in der Laser-Materialbearbeitung.
Gezeigt werden aktuelle Forschungsergebnisse zu verschiedenen Laserprozessen wie: Hochratelaserabtrag, Hochrate Micro Cladding, Laser - Beschichtungsverfahren, Laser - Mikrostrukturieren, Lasermikrosintern, Keramikschweißen und Abtragschneiden, die mit Industriepartnern in deren Produktion appliziert werden sollen.
Ein Highlight ist die Präsentation eines schnellen 2D-Polygonspiegelscanners als hauseigene Geräteentwicklung. Zahlreiche patentierte Innovationen machen das Gerät zum derzeit schnellsten und anwenderfreundlichsten Hochleistungsscanner weltweit. Gesucht werden Projektpartner, mit denen industrielle Applikationen für dieses Gerät erforscht und zur Anwendung gebracht werden können. Erste Projekte in diese Richtung laufen bereits.
Unter anderem mit Hilfe eines solchen schnellen Scanners wurde das Micro Cladding Verfahren, mit dessen Hilfe man feinste erhabene Strukturen auf Oberflächen aufbringen kann, zu neuen Höchstleistungen gebracht. Dadurch lassen sich heute auch auf großen Flächen wir z.B. Oberflächen von Turbinenflügeln Mikrostrukturen effektiv aufbringen. Für die Anwendung des Verfahrens werden ebenfalls Partner gesucht.
Weiterhin bietet das Institut seine Kompetenzen  für die Neuentwicklung von innovativen Laserverfahren an oder es berät Kunden zur Optimierung geplanter oder bereits vorhandener Laserapplikationen.
Auch hier wünschen sich die Mittweidaer Forscher zahlreiche und interessante Kontakte am Messestand.

Ganz in der Nähe, auf der Chemnitzer Messe ist die Hochschule Mittweida ebenfalls vertreten; auf der SIT, der Sächsischen Industrie- und Technologiemesse. Hier präsentiert sich die Hochschule Mittweida gemeinsam mit der TU Chemnitz, der TU Bergakademie Freiberg und der Westsächsischen Hochschule Zwickau auf dem Gemeinschaftsstand „Forschung für die Zukunft“ am Stand E11. Neben der Präsentation von Bildungsangeboten und Kooperationsmöglichkeiten im Kontext von Forschung, Transfer und Gründung steht das Knüpfen neuer Industriekontakte im Vordergrund.
Am Fachkräfte – und Studententag am 02. Juni haben Schüler und Studierende übrigens freien Eintritt auf die Messe (mit Nachweis).

 Wir wünschen allen Kolleginnen und Kollegen auf den Messen gutes Gelingen und eine erfolgreiche Messeteilnahme!

 

Text: Johannes Näther, LHM, Referat Forschung